金属熱CVD装置

コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。
成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効率良く利用できます。
直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。

• ウエハサイズ　最大3インチ×1　(専用搬送トレイ)
• ロードロック式、トランスファーロッド式搬送機構
• MV仕様 (0.1Pa以下)
• コールドウォール式