タングステンヒーターを構成した縦型真空熱処理装置です。
金属ヒーターを構成した最高温度 250℃ での処理が可能な乾燥・ベーキング装置です。
コールドウォール式の熱CVD装置です。
抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。
斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。
ターボ分子ポンプ、スクロールポンプをコンパクトに組み込んだ自動排気装置です。
プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。
高真空環境での試験を行う為のスペースチャンバです。
シースヒーターを構成した真空熱処理装置です。
ホットウォール式の熱CVD装置です。
試料を液体窒素に浸し、極低温環境での試験を目的とした高真空排気装置です。
超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。
抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。
モリブデンヒーターを構成した横型真空熱処理装置です。
スクロールポンプ、シュラウド式コールドトラップをコンパクトに組み込んだ自動排気装置です。
超伝導転移端センサ―(TES)に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。
金属、樹脂、特殊材料などの加工品の設計、製作を承ります。
核融合実験における中性粒子分析器(NPA)の駆動装置や駆動型プローブ、ボロメータ等の計測機器の治具、駆動装置などに弊社製品が採用されています。
低温、高真空環境での試験を行う為のスペースチャンバです。
プラズマ環境下における試料の特性を試験、観測する評価装置です。
容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。
ターボ分子ポンプ、油回転ポンプを組み込んだ手動排気装置です。
弊社オリジナル製品をはじめ、各種規格部品、メーカー製品を取り扱っております。
超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。
