プラズマCVD装置

容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。
加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。
直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な実験を行う研究室、教育機関に適しています。

• ウエハサイズ　最大2インチ×1　(専用搬送トレイ)
• ロードロック式、トランスファーロッド式搬送機構
• HV仕様 (1.0×10^-3 Pa以下)
• DCプラズマ